應用需求與挑戰
在掩模版檢測中，任何細微缺陷都可能在光刻過程中被成倍放大，影響整個芯片批次的質量。相機不僅要具備極致的分辨率和精細的對比度還原能力，還需要適配深紫外甚至極紫外波段的光學成像，以滿足特殊檢測環境的需求。同時，掩模檢測要求高度穩定和長期一致的性能，確保檢測結果的可靠性和可重復性。
典型相機推薦
Gemini 8KTDI
深紫外高速TDI-sCMOS相機
193 nm 位于 DUV（100–200 nm）深紫外波段，是光刻環節的核心光源（ArF 準分子激光），在 20 nm 及更先進工藝中發揮著關鍵作用。在檢測環節，193 nm 被廣泛用于掩膜版缺陷檢測與光刻膠圖形驗證，可揭示亞微米甚至納米級缺陷，從而實現高精度工藝監控。
Gemini 8KTDI在 193?nm 波段的響應能力已通過相關實驗室驗證。憑借 18 年在高信噪比成像、高速數據傳輸以及特殊波長極限探測技術的深厚積累，鑫圖成為國內極少數能夠支持 193?nm 深紫外（DUV）高光子能量科研與檢測應用的專業相機供應商。
2025-09-12
